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NiCr

NiCr 80:20 por cento em peso alvos de pulverização catódica

Alvos de pulverização catódica de níquel cromo (NiCr 80:20% em peso)NiCr(80:20% em peso),Ni80Cr20,NiCr8020,NiCr80/20wr%
Pureza: 99,5% (2N5)
Dimensão(mm):Espessura 16(mais/-0.1) x Largura 170(mais/-0.5) x Comprimento 2050/2300mm, outro tamanho conforme personalizado
Resistance (μΩ.m):>140
Força máxima (maior ou igual a MPa):440
Alongamento (maior ou igual a porcentagem): 20 por cento
Forma: placa, tubo
Relative Density:>=99,7 por cento
Técnica: forja e usinagem
Superfície: cor metálica e brilhante psurface Ra1.6
Planicidade:0.15-0.2mm

Introdução de Produto

Os alvos de pulverização catódica NiCr 80:20% em peso são compostos de 80% de níquel e 20% de cromo. É um tipo de alvo utilizado em processos de deposição física de vapor (PVD), principalmente na técnica de sputtering. É comumente usado em uma variedade de aplicações, incluindo a produção de resistores de película fina, contatos eletrônicos e revestimentos resistentes à corrosão. Eles estão disponíveis em uma variedade de fabricantes e fornecedores especializados em alvos de pulverização catódica e materiais relacionados.

Informações gerais

Material:NiCr(80:20% em peso),Ni80Cr20,NiCr8020,NiCr80/20

Pureza: 99,5 por cento (2N5) - 99,95 por cento (3N5)

Dimensão(mm):Espessura 16(mais/-0.1) x Largura 170(mais/-0.5) x Comprimento 2050/2300mm sem emenda Ou de acordo com a demanda

Aplicação de alvos de pulverização catódica de níquel-cromo (Alvos de NiCr 80:20% em peso)

1. vidro arquitetônico, carro usando vidro, campo de exibição gráfica

2. campo eletrônico e semicondutor

3. campo de decoração e molde

4. materiais de revestimento óptico

Alvo

Manufatura

Técnica

Pureza

Densidade

Tamanho de grão

Especificação de produção

Aplicativo

Manufatura

Técnica

Forjamento por fusão

2N5-3N5

8.4

>100μm

Planar Rotativo

De acordo com o desenho do cliente

Revestimento de filme

vidro Viúva lente Plástico

decoração

Parâmetro de NiCr (80:20% em peso)

Nome

Químico principal

porcentagem em peso do componente

Componente

uso máx.

temperatura

Derretendo

Apontar

Resistividade

μΩ·m,20

Extensão

percentual de taxa

Específico

Calor J/g.

Aquecer

Condução

Coeficiente

KJ/Mh

Linear

expansão

coeficiente

aX10-6/

Microestrutura

Magnético

Ni mais

companhia

Cr

Ni80

Cr20

bola

20-23

Menos que ou igual a

1.0

1200

1400

1.09±0.05

20

0.440

60.3

18.0

austenítico

Não magnético

Outros alvos de pulverização catódica de metais

Alvo de pulverização catódica,/alvo rotativo (alvo de tubo)

Item

pureza

Densidade

forma

Dimensão (mm)

Aplicativo

Alvo TiAl

2N8- 4N

3.6-4.2

Tubo, disco, placa

OD70 x T 7 x L

Outros como personalizados

Para alvos de monitores de tela plana,

indústria de óculos de casaco (incluindo

vidro arquitetônico, vidro automotivo,

vidro óptico) alvos,

alvos da indústria solar de filme fino,

Engenharia de superfície (decoração

e ferramentas) com metas,

farol de carro revestido com alvos

Cr alvo

2N7-4N

7.19

Tubo, disco, placa

OD80 X T8 XL

Outros como personalizados

alvo Ti

2N8-4N

4.15

Tubo, disco, placa

OD127 x ID105 x L

OD219 x ID194 x L

OD300 x ID155 x L

Outros como personalizados

Alvo Zr

2N5-4N

6.5

Tubo, disco, placa

Outros como personalizados

Al alvo

4N-5N

2.8

Tubo, disco, placa

Ni alvo

3N-4N

8.9

Tubo, disco, placa

Cu alvo

(cobre )

3N-4N5

8.92

Tubo, disco, placa

Cu alvo

(latão)

3N-4N5

8.92

Tubo, disco, placa

ta alvo

3N5-4N

16.68

Tubo, disco, placa

OD146xID136x299.67

(3 pecas)

Introdução

Na indústria de revestimentos, alvos de pulverização catódica de níquel-cromo, alvos e filmes de liga binária são amplamente utilizados em filmes de reforço de superfície, como resistência ao desgaste, redução do desgaste, resistência ao calor e resistência à corrosão, bem como vidro de baixa emissividade (low-E), microeletrônica, magnético Em indústrias de tecnologia de ponta, como gravação, semicondutores e resistência de filme fino, o processo de tratamento térmico afeta significativamente a estrutura de fase e a microestrutura da liga.

A composição microestrutura e microdomínio de ligas Ni-Cr são sensíveis ao processo de tratamento térmico. Na faixa de 1000-1200 graus Celsius, o conteúdo atômico de Ni na fase BCC muda de 5% para 30%. Um processo de tratamento térmico de homogeneização adequado é proposto para obter alvos de liga de Ni-Cr de alta qualidade com estrutura e composição relativamente uniformes. Quando o conteúdo atômico do elemento Ni é de 20 por cento -70 por cento, o tratamento térmico de homogeneização é adequado entre 1200-1300 graus Celsius, e o tempo de recozimento da homogeneização varia com a seleção da temperatura de recozimento e varia no intervalo de 2-24H. Com base na teoria da colisão em cascata aleatória e no método de Monte Carlo, os resultados da simulação da interação entre os íons incidentes e o sólido alvo da liga de Ni-Cr no sputtering do feixe de íons mostram que as energias de superfície atômica do Ni e do Cr são relativamente próximas. , A composição do produto de pulverização catódica do alvo da liga Ni-Cr não se desvia significativamente da composição do alvo, o que é benéfico para a seleção da composição do alvo e o controle da composição do filme.

O tempo de recozimento de homogeneização varia com a temperatura de recozimento e varia dentro do intervalo de 2-24h. Geralmente, sob a premissa de garantir a uniformidade da estrutura e composição, quanto maior a temperatura do tratamento térmico, menor o tempo de tratamento térmico necessário; por outro lado, a fim de garantir a uniformidade da estrutura e composição Para evitar o crescimento excessivo do grão, a temperatura de envelhecimento no estágio final do tratamento térmico real não deve ser selecionada muito alta. O filme de nicromo tem alta resistividade e baixo coeficiente de resistência à temperatura. Possui as características de alto coeficiente de sensibilidade e pequena dependência de temperatura, por isso é frequentemente usado na preparação de medidores de tensão de resistência de filme fino.

Tag: alvo crepitante

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