NiCr 80:20 por cento em peso alvos de pulverização catódica
Alvos de pulverização catódica de níquel cromo (NiCr 80:20% em peso)NiCr(80:20% em peso),Ni80Cr20,NiCr8020,NiCr80/20wr%
Pureza: 99,5% (2N5)
Dimensão(mm):Espessura 16(mais/-0.1) x Largura 170(mais/-0.5) x Comprimento 2050/2300mm, outro tamanho conforme personalizado
Resistance (μΩ.m):>140
Força máxima (maior ou igual a MPa):440
Alongamento (maior ou igual a porcentagem): 20 por cento
Forma: placa, tubo
Relative Density:>=99,7 por cento
Técnica: forja e usinagem
Superfície: cor metálica e brilhante psurface Ra1.6
Planicidade:0.15-0.2mm
Introdução de Produto
Os alvos de pulverização catódica NiCr 80:20% em peso são compostos de 80% de níquel e 20% de cromo. É um tipo de alvo utilizado em processos de deposição física de vapor (PVD), principalmente na técnica de sputtering. É comumente usado em uma variedade de aplicações, incluindo a produção de resistores de película fina, contatos eletrônicos e revestimentos resistentes à corrosão. Eles estão disponíveis em uma variedade de fabricantes e fornecedores especializados em alvos de pulverização catódica e materiais relacionados.
Informações gerais
Material:NiCr(80:20% em peso),Ni80Cr20,NiCr8020,NiCr80/20
Pureza: 99,5 por cento (2N5) - 99,95 por cento (3N5)
Dimensão(mm):Espessura 16(mais/-0.1) x Largura 170(mais/-0.5) x Comprimento 2050/2300mm sem emenda Ou de acordo com a demanda
Aplicação de alvos de pulverização catódica de níquel-cromo (Alvos de NiCr 80:20% em peso)
1. vidro arquitetônico, carro usando vidro, campo de exibição gráfica
2. campo eletrônico e semicondutor
3. campo de decoração e molde
4. materiais de revestimento óptico
| Alvo | Manufatura Técnica | Pureza | Densidade | Tamanho de grão | Especificação de produção | Aplicativo |
Manufatura Técnica | Forjamento por fusão | 2N5-3N5 | 8.4 | >100μm | Planar Rotativo De acordo com o desenho do cliente | Revestimento de filme vidro Viúva lente Plástico decoração |
Parâmetro de NiCr (80:20% em peso)
Nome | Químico principal porcentagem em peso do componente | Componente uso máx. temperatura | Derretendo Apontar | Resistividade μΩ·m,20 | Extensão percentual de taxa | Específico Calor J/g. | Aquecer Condução Coeficiente KJ/Mh | Linear expansão coeficiente aX10-6/ | Microestrutura | Magnético | ||
Ni mais companhia | Cr | Fé | ||||||||||
Ni80 Cr20 | bola | 20-23 | Menos que ou igual a 1.0 | 1200 | 1400 | 1.09±0.05 | 20 | 0.440 | 60.3 | 18.0 | austenítico | Não magnético |
Outros alvos de pulverização catódica de metais
Alvo de pulverização catódica,/alvo rotativo (alvo de tubo) | |||||
Item | pureza | Densidade | forma | Dimensão (mm) | Aplicativo |
Alvo TiAl | 2N8- 4N | 3.6-4.2 | Tubo, disco, placa | OD70 x T 7 x L Outros como personalizados | Para alvos de monitores de tela plana, indústria de óculos de casaco (incluindo vidro arquitetônico, vidro automotivo, vidro óptico) alvos, alvos da indústria solar de filme fino, Engenharia de superfície (decoração e ferramentas) com metas, farol de carro revestido com alvos |
Cr alvo | 2N7-4N | 7.19 | Tubo, disco, placa | OD80 X T8 XL Outros como personalizados | |
alvo Ti | 2N8-4N | 4.15 | Tubo, disco, placa | OD127 x ID105 x L OD219 x ID194 x L OD300 x ID155 x L Outros como personalizados | |
Alvo Zr | 2N5-4N | 6.5 | Tubo, disco, placa | Outros como personalizados | |
Al alvo | 4N-5N | 2.8 | Tubo, disco, placa | ||
Ni alvo | 3N-4N | 8.9 | Tubo, disco, placa | ||
Cu alvo (cobre ) | 3N-4N5 | 8.92 | Tubo, disco, placa | ||
Cu alvo (latão) | 3N-4N5 | 8.92 | Tubo, disco, placa | ||
ta alvo | 3N5-4N | 16.68 | Tubo, disco, placa | OD146xID136x299.67 (3 pecas) | |
Introdução
Na indústria de revestimentos, alvos de pulverização catódica de níquel-cromo, alvos e filmes de liga binária são amplamente utilizados em filmes de reforço de superfície, como resistência ao desgaste, redução do desgaste, resistência ao calor e resistência à corrosão, bem como vidro de baixa emissividade (low-E), microeletrônica, magnético Em indústrias de tecnologia de ponta, como gravação, semicondutores e resistência de filme fino, o processo de tratamento térmico afeta significativamente a estrutura de fase e a microestrutura da liga.
A composição microestrutura e microdomínio de ligas Ni-Cr são sensíveis ao processo de tratamento térmico. Na faixa de 1000-1200 graus Celsius, o conteúdo atômico de Ni na fase BCC muda de 5% para 30%. Um processo de tratamento térmico de homogeneização adequado é proposto para obter alvos de liga de Ni-Cr de alta qualidade com estrutura e composição relativamente uniformes. Quando o conteúdo atômico do elemento Ni é de 20 por cento -70 por cento, o tratamento térmico de homogeneização é adequado entre 1200-1300 graus Celsius, e o tempo de recozimento da homogeneização varia com a seleção da temperatura de recozimento e varia no intervalo de 2-24H. Com base na teoria da colisão em cascata aleatória e no método de Monte Carlo, os resultados da simulação da interação entre os íons incidentes e o sólido alvo da liga de Ni-Cr no sputtering do feixe de íons mostram que as energias de superfície atômica do Ni e do Cr são relativamente próximas. , A composição do produto de pulverização catódica do alvo da liga Ni-Cr não se desvia significativamente da composição do alvo, o que é benéfico para a seleção da composição do alvo e o controle da composição do filme.
O tempo de recozimento de homogeneização varia com a temperatura de recozimento e varia dentro do intervalo de 2-24h. Geralmente, sob a premissa de garantir a uniformidade da estrutura e composição, quanto maior a temperatura do tratamento térmico, menor o tempo de tratamento térmico necessário; por outro lado, a fim de garantir a uniformidade da estrutura e composição Para evitar o crescimento excessivo do grão, a temperatura de envelhecimento no estágio final do tratamento térmico real não deve ser selecionada muito alta. O filme de nicromo tem alta resistividade e baixo coeficiente de resistência à temperatura. Possui as características de alto coeficiente de sensibilidade e pequena dependência de temperatura, por isso é frequentemente usado na preparação de medidores de tensão de resistência de filme fino.
Tag: alvo crepitante
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