Alvo de cilindro rotativo de titânio

É um componente usado em processos de deposição física de vapor (PVD), que é um método para depositar filmes finos de material em um substrato. O alvo do tubo de titânio é feito de titânio puro e tem o formato de um cilindro que gira durante o processo de PVD.

O processo PVD funciona usando um arco elétrico ou pulverização catódica de magnetron para vaporizar o material alvo, neste caso, titânio, e depositá-lo como uma película fina em um substrato. O alvo do cilindro giratório permite uma deposição mais uniforme da película de titânio no substrato.

Os benefícios do uso em processos PVD incluem alta pureza do filme depositado, alta taxa de deposição e melhor adesão do filme. Os alvos rotativos de titânio para pulverização catódica de magnetron são feitos de material de titânio de alta qualidade e são projetados para suportar altas temperaturas e tensões mecânicas durante o processo PVD.

Introdução à especificação

Tipo de tamanho normal:

Nossa vantagem

Os alvos de titânio que fornecemos têm grãos pequenos, distribuição uniforme, alta pureza, poucas inclusões e alta pureza. O filme de TiN depositado é usado em decoração, ferramentas, semicondutores e outros campos, com boa adesão, revestimento uniforme e cores brilhantes.

--Pureza

Para produzir um alvo de pulverização catódica de titânio qualificado, a pureza é um dos seus importantes indicadores de desempenho. A pureza do alvo de titânio tem uma grande influência no desempenho do revestimento de pulverização catódica. Quanto maior a pureza do alvo de titânio, menos partículas de elementos de impurezas no filme de titânio pulverizado, resultando em melhor desempenho do revestimento PVD, incluindo melhor resistência à corrosão e propriedades elétricas e ópticas. No entanto, em aplicações práticas, alvos de titânio para diferentes propósitos têm diferentes requisitos de pureza. O material alvo é usado como fonte de cátodo na pulverização catódica, e os elementos de impurezas e inclusões de porosidade no material são as principais fontes de poluição do filme depositado. As inclusões de porosidade serão basicamente removidas durante o teste não destrutivo do lingote, e as inclusões de porosidade que não forem removidas causarão descarga durante o processo de pulverização catódica, afetando assim a qualidade do filme; o conteúdo de elementos de impurezas só pode ser refletido nos resultados do teste de análise de elementos completos, quanto menor o conteúdo total de impurezas, maior a pureza do alvo de titânio.

--Densidade

A densidade também é um fator importante na medição da qualidade de alvos de titânio. Para reduzir a porosidade no sólido alvo e melhorar o desempenho do filme pulverizado, o alvo geralmente precisa ter uma densidade maior.

A densidade do alvo afeta não apenas a taxa de pulverização catódica, mas também as propriedades elétricas e ópticas do filme. Quanto maior a densidade do alvo, melhor o desempenho do filme. Além disso, aumentar a densidade e a resistência do alvo permite que o alvo suporte melhor o estresse térmico durante a pulverização catódica. A densidade também é um dos principais indicadores de desempenho do alvo.

--Tamanho das partículas e sua distribuição

Normalmente, os alvos de pulverização catódica são estruturas policristalinas com tamanhos de grãos na ordem de vários micrômetros a vários milímetros. Para o mesmo alvo, quanto menor o tamanho de partícula do alvo, mais rápida a velocidade de pulverização catódica do alvo; além disso, o alvo com menor diferença de tamanho de partícula pode pulverizar um filme com uma espessura mais uniforme. O estudo descobriu que se o tamanho de grão do alvo de titânio for controlado abaixo de 100 μm, e a variação do tamanho de grão for mantida dentro de 20%, a qualidade do filme pulverizado pode ser muito melhorada.

--orientação cristalográfica

O titânio tem uma estrutura hexagonal compactada. Como os átomos do alvo de titânio são facilmente pulverizados ao longo da direção hexagonal compactada dos átomos durante a pulverização, para atingir uma taxa de pulverização mais alta, a estrutura cristalina do alvo pode ser alterada alterando o método. para aumentar a taxa de pulverização. A direção cristalográfica do alvo de titânio também tem grande influência na uniformidade da espessura do filme pulverizado.

--Uniformidade estrutural

A uniformidade estrutural também é um dos indicadores importantes para examinar a qualidade do alvo. Para alvos de titânio, não apenas o plano de pulverização catódica do alvo, mas também a composição da direção normal, orientação do grão e uniformidade média do tamanho do grão do plano de pulverização catódica são necessários. Somente dessa forma, o alvo de titânio pode obter um filme de titânio com espessura uniforme, qualidade confiável e tamanho de grão consistente ao mesmo tempo durante sua vida útil.

Caso de especificação

Velocidade de rotação: O alvo deve ser capaz de girar a velocidades de até vários milhares de RPM para atingir uma taxa de deposição mais uniforme e prolongar a vida útil do alvo.

Resfriamento: O alvo do tubo de titânio deve ser resfriado a água para dissipar o calor gerado durante o processo de deposição e evitar danos ao alvo.
Placa de apoio: Uma placa de apoio de titânio é normalmente usada para dar suporte ao alvo do cilindro giratório e fornecer contato elétrico.
Método de colagem: O alvo geralmente é colado à placa de apoio usando colagem por difusão ou outros métodos de colagem de alta resistência para garantir boa condutividade térmica e elétrica.
Pureza: Os alvos rotativos de titânio para pulverização catódica de magnetron devem ter um alto nível de pureza para minimizar as impurezas nos filmes depositados e garantir um desempenho consistente. O nível de impurezas deve ser menor que 1000 partes por milhão (ppm) para a maioria das aplicações.

No geral, as especificações de um alvo de cilindro rotativo de titânio variam dependendo dos requisitos específicos da aplicação, e o alvo pode ser personalizado para atender a essas necessidades.

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