Alvo
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Alvo

Alvo de cromo

Alvo de cromo, alvo de Cr, alvo de pulverização catódica de cromo
Pureza:99,5%-99.99%
Alvo retangular, alvo redondo, alvo rotativo
Processo de formação: prensagem isostática a quente (HIP)
Tamanho convencional: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm etc.
Aplicação: revestimento decorativo, revestimento de ferramentas, revestimento de tela plana, indústria de energia solar de película fina, indústria de tela plana, indústria de vidro de economia de energia, indústria de revestimento óptico (como revestimento de espelho retrovisor de automóvel) etc.

Introdução de Produto

Especificação

Pureza: 99,5%~99,95%;

Processo de formação: prensagem isostática a quente (HIP);

Tamanho convencional: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm, etc.;

Aplicação: revestimento decorativo, revestimento de ferramentas, revestimento de tela plana, indústria de energia solar de película fina, indústria de tela plana, indústria de vidro de economia de energia, indústria de revestimento óptico (como revestimento de espelho retrovisor de automóveis), etc.

Cromo

Performance do produto

Pureza

99.5

99.95

Densidade g/cm3

Maior ou igual a 7,12

Maior ou igual a 7,12

Tamanho do grão/μm

Menor ou igual a 100

Menor ou igual a 100

Conteúdo total de impurezas metálicas/ppm

Menor ou igual a 5000

Menor ou igual a 500

Condutividade térmica/W/mK

60

100

Coeficiente de expansão térmica/1/K

8×10-6

8×10-6

Tamanho/mm

Planar

Menor ou igual a 1600×500

Menor ou igual a 1600×500

Girando

Formação integral por HIP
Comprimento menor ou igual a 4000
Espessura menor ou igual a 15

Formação integral por HIP
Comprimento menor ou igual a 4000
Espessura menor ou igual a 15

2N5 (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3

Composição

Todos

Si

C

S

O

N

Padrão

Menor ou igual a 1500

Menor ou igual a 1200

Menor ou igual a 1500

Menor ou igual a 200

Menor ou igual a 50

Menor ou igual a 1400

Menor ou igual a 300

Valores de teste

980

300

600

62

50

1200

200

2N8 (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3

Composição

Todos

Si

C

S

O

N

Padrão

Menor ou igual a 800

Menor ou igual a 300

Menor ou igual a 400

Menor ou igual a 200

Menor ou igual a 50

Menor ou igual a 1000

Menor ou igual a 100

Valores de teste

740

78

92

84

50

340

30

3N (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3

Composição

Todos

Si

C

S

O

N

Padrão

Menor ou igual a 500

Menor ou igual a 100

Menor ou igual a 150

Menor ou igual a 150

Menor ou igual a 30

Menor ou igual a 500

Menor ou igual a 100

Valores de teste

290

47

80

90

28

450

50

3N5 (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3

Composição

Todos

Si

Com

Ni

C

S

O

N

Padrão

Menor ou igual a 100

Menor ou igual a 50

Menor ou igual a 50

Menor ou igual a 10

Menor ou igual a 50

Menor ou igual a 50

Menor ou igual a 30

Menor ou igual a 150

Menor ou igual a 80

Valores de teste

50

45

40

7

10

24

27

137

30

Partículas de cromo de alta pureza: os tamanhos de partículas comumente usados ​​são: 1-3mm, 3-5mm, 40 mesh, -20-300 mesh, 40#, 60#, 80#, 200#, etc. para revestimento por evaporação, alta pureza, bom efeito de evaporação.

caso de aplicação

Alvos de pulverização catódica de cromo são comumente usados ​​em processos de deposição de filme fino, como deposição física de vapor (PVD) e pulverização catódica de magnetron. Esses processos são usados ​​em várias indústrias, incluindo semicondutores, eletrônicos, aeroespacial e automotivo, para depositar camadas finas de materiais em substratos para vários propósitos, como melhorar as propriedades do material ou criar um acabamento de superfície específico.

Eles têm excelentes propriedades de adesão, altos pontos de fusão e são quimicamente estáveis, tornando-os ideais para uso nesses processos. Eles são usados ​​para depositar filmes finos de cromo em vários substratos, como vidro, metal e cerâmica, para criar vários revestimentos funcionais e decorativos.

Uma aplicação dos alvos de crômio Cr é na indústria de semicondutores, onde são usados ​​para criar camadas finas de filme de crômio para vários propósitos, como interconexões de eletrodos, camadas de barreira e contatos ôhmicos. Essas camadas são componentes essenciais de dispositivos semicondutores, e suas propriedades podem afetar muito o desempenho e a confiabilidade dos dispositivos.

Nas indústrias aeroespacial e automotiva, eles são usados ​​para criar revestimentos protetores em componentes de motores, como lâminas de turbinas e sistemas de escapamento, para melhorar sua durabilidade e resistência a ambientes de alta temperatura.

Na indústria eletrônica, alvos de pulverização catódica de Cr são usados ​​para depositar filmes finos em vários substratos, como telas sensíveis ao toque e displays, para melhorar seu desempenho e durabilidade.

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