Alvo de cromo
Alvo de cromo, alvo de Cr, alvo de pulverização catódica de cromo
Pureza:99,5%-99.99%
Alvo retangular, alvo redondo, alvo rotativo
Processo de formação: prensagem isostática a quente (HIP)
Tamanho convencional: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm etc.
Aplicação: revestimento decorativo, revestimento de ferramentas, revestimento de tela plana, indústria de energia solar de película fina, indústria de tela plana, indústria de vidro de economia de energia, indústria de revestimento óptico (como revestimento de espelho retrovisor de automóvel) etc.
Introdução de Produto
Especificação
Pureza: 99,5%~99,95%;
Processo de formação: prensagem isostática a quente (HIP);
Tamanho convencional: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm, etc.;
Aplicação: revestimento decorativo, revestimento de ferramentas, revestimento de tela plana, indústria de energia solar de película fina, indústria de tela plana, indústria de vidro de economia de energia, indústria de revestimento óptico (como revestimento de espelho retrovisor de automóveis), etc.
Cromo | Performance do produto | ||
Pureza | 99.5 | 99.95 | |
Densidade g/cm3 | Maior ou igual a 7,12 | Maior ou igual a 7,12 | |
Tamanho do grão/μm | Menor ou igual a 100 | Menor ou igual a 100 | |
Conteúdo total de impurezas metálicas/ppm | Menor ou igual a 5000 | Menor ou igual a 500 | |
Condutividade térmica/W/mK | 60 | 100 | |
Coeficiente de expansão térmica/1/K | 8×10-6 | 8×10-6 | |
Tamanho/mm | Planar | Menor ou igual a 1600×500 | Menor ou igual a 1600×500 |
Girando | Formação integral por HIP | Formação integral por HIP | |
2N5 (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3
Composição | Fé | Todos | Si | C | S | O | N |
Padrão | Menor ou igual a 1500 | Menor ou igual a 1200 | Menor ou igual a 1500 | Menor ou igual a 200 | Menor ou igual a 50 | Menor ou igual a 1400 | Menor ou igual a 300 |
Valores de teste | 980 | 300 | 600 | 62 | 50 | 1200 | 200 |
2N8 (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3
Composição | Fé | Todos | Si | C | S | O | N |
Padrão | Menor ou igual a 800 | Menor ou igual a 300 | Menor ou igual a 400 | Menor ou igual a 200 | Menor ou igual a 50 | Menor ou igual a 1000 | Menor ou igual a 100 |
Valores de teste | 740 | 78 | 92 | 84 | 50 | 340 | 30 |
3N (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3
Composição | Fé | Todos | Si | C | S | O | N |
Padrão | Menor ou igual a 500 | Menor ou igual a 100 | Menor ou igual a 150 | Menor ou igual a 150 | Menor ou igual a 30 | Menor ou igual a 500 | Menor ou igual a 100 |
Valores de teste | 290 | 47 | 80 | 90 | 28 | 450 | 50 |
3N5 (Oligoelementos)PPM Maior ou igual a 7,12g/cm3
Composição | Fé | Todos | Si | Com | Ni | C | S | O | N |
Padrão | Menor ou igual a 100 | Menor ou igual a 50 | Menor ou igual a 50 | Menor ou igual a 10 | Menor ou igual a 50 | Menor ou igual a 50 | Menor ou igual a 30 | Menor ou igual a 150 | Menor ou igual a 80 |
Valores de teste | 50 | 45 | 40 | 7 | 10 | 24 | 27 | 137 | 30 |
Partículas de cromo de alta pureza: os tamanhos de partículas comumente usados são: 1-3mm, 3-5mm, 40 mesh, -20-300 mesh, 40#, 60#, 80#, 200#, etc. para revestimento por evaporação, alta pureza, bom efeito de evaporação.
caso de aplicação
Alvos de pulverização catódica de cromo são comumente usados em processos de deposição de filme fino, como deposição física de vapor (PVD) e pulverização catódica de magnetron. Esses processos são usados em várias indústrias, incluindo semicondutores, eletrônicos, aeroespacial e automotivo, para depositar camadas finas de materiais em substratos para vários propósitos, como melhorar as propriedades do material ou criar um acabamento de superfície específico.
Eles têm excelentes propriedades de adesão, altos pontos de fusão e são quimicamente estáveis, tornando-os ideais para uso nesses processos. Eles são usados para depositar filmes finos de cromo em vários substratos, como vidro, metal e cerâmica, para criar vários revestimentos funcionais e decorativos.
Uma aplicação dos alvos de crômio Cr é na indústria de semicondutores, onde são usados para criar camadas finas de filme de crômio para vários propósitos, como interconexões de eletrodos, camadas de barreira e contatos ôhmicos. Essas camadas são componentes essenciais de dispositivos semicondutores, e suas propriedades podem afetar muito o desempenho e a confiabilidade dos dispositivos.
Nas indústrias aeroespacial e automotiva, eles são usados para criar revestimentos protetores em componentes de motores, como lâminas de turbinas e sistemas de escapamento, para melhorar sua durabilidade e resistência a ambientes de alta temperatura.
Na indústria eletrônica, alvos de pulverização catódica de Cr são usados para depositar filmes finos em vários substratos, como telas sensíveis ao toque e displays, para melhorar seu desempenho e durabilidade.
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